氮气流量、基体温度对反应溅射(Ti,Al)N 成膜影响

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刘昕, 余志明, 尹登峰, 苏伟涛, 杨莉

Effects of N2 Flow Rate and Substrate Temperature on (Ti, Al)N Films Deposited by Reactive Sputtering

LIU Xin, YU Zhi-ming, YIN Deng-feng, SU Wei-tao, YANG Li

矿冶工程 . 2004, (5): 80 -82 .